簡要描(miao)述:山東瀚(han)文儀器開(kai)發(fa)研制了全自動游離(li)二(er)氧化(hua)(hua)硅(gui)前處理儀。GBZT192.4-2007《工作場所空氣中粉塵測(ce)(ce)定 第4部分(fen)(fen):游離(li)二(er)氧化(hua)(hua)硅(gui)含量》在標(biao)準中游離(li)二(er)氧化(hua)(hua)硅(gui)的測(ce)(ce)定有(you)三種推薦方法(fa),分(fen)(fen)別為(wei):焦磷酸法(fa)、X線衍射法(fa)、外外分(fen)(fen)光光度法(fa)。其中焦磷酸法(fa)作為(wei)第一方法(fa),是游離(li)二(er)氧化(hua)(hua)硅(gui)最佳分(fen)(fen)析(xi)方法(fa)。
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品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 國產 |
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應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,地礦,汽車 |
全自動游離二氧化硅前處理儀
——焦磷酸法(fa)
一、研發前景
在日常(chang)工作場所空(kong)氣環境(jing)中含有多種粉(fen)塵(chen),且多為呼吸性粉(fen)塵(chen),其(qi)中含有游離(li)(li)(li)二(er)(er)氧化(hua)(hua)硅的(de)粉(fen)塵(chen)被吸入(ru)人(ren)體后,容易引起多種塵(chen)肺(fei)病,嚴重危(wei)害(hai)人(ren)體健康。 粉(fen)塵(chen)中游離(li)(li)(li)二(er)(er)氧化(hua)(hua)硅的(de)含量越高對人(ren)體危(wei)害(hai)性越大,因此長期控制(zhi)和(he)監測(ce)空(kong)氣粉(fen)塵(chen)中游離(li)(li)(li)二(er)(er)氧化(hua)(hua)硅含量的(de)工作尤為重要。在職業衛生盲(mang)樣考(kao)核和(he)對比實驗(yan)中,游離(li)(li)(li)二(er)(er)氧化(hua)(hua)硅含量的(de)測(ce)定也是(shi)必測(ce)項目。
根據中華人民共和國國家職(zhi)業衛(wei)生標(biao)準GBZ/T 192.4-2007《工(gong)作場所空氣中粉塵(chen)測定 第4部分:游(you)離(li)二氧化硅含量》山東瀚文儀器(qi)開發研制了全自動游離二氧化硅處理平臺。在標準中游(you)離(li)二氧(yang)化硅的測定有三種(zhong)推薦方(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa),分別為:焦磷酸法(fa)(fa)(fa)(fa)、X線衍射法(fa)(fa)(fa)(fa)、紅外分光(guang)光(guang)度法(fa)(fa)(fa)(fa)。其中焦磷酸法(fa)(fa)(fa)(fa)作為第(di)一方(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa),是(shi)游(you)離(li)二氧(yang)化硅最佳分析(xi)方(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa)。
二(er)、儀器簡介
瀚文全自動游離二氧化硅前處理儀,是用于測定公共場所空氣(qi)粉塵中游離(li)二氧化硅含量的前處(chu)理(li)儀器(qi)。整個(ge)過程按照國標方法全自動化執(zhi)行(xing);儀器(qi)可實(shi)現大(da)批量自(zi)動制備焦(jiao)磷酸,操(cao)作便捷,降低勞(lao)動強度(du),全程無需人員值(zhi)守,守護實(shi)驗人員身心健康。
三(san)、功能特(te)點(dian)
制備(bei)焦磷酸功(gong)能
Ø 儀器可(ke)代替人工,實現(xian)自動制備(bei)焦(jiao)磷(lin)酸,降低勞(lao)動程度,守護身心健康
自動化(hua)模組
Ø 無需人工干(gan)預,實現(xian)全自動處理
控制系統(tong)
Ø 高清觸摸(mo)電腦,內置(zhi)實驗方(fang)法
加熱系統(tong)
Ø 采用進口熱輻射加熱模塊(kuai),實(shi)驗過程中(zhong)加熱模塊(kuai)自動調溫
Ø 可在10分鐘內達到(dao)實驗要求溫(wen)度并(bing)保(bao)持恒溫(wen)狀態
冷卻系統
Ø 水(shui)(shui)(shui)浴降溫,自動(dong)加水(shui)(shui)(shui)、自動(dong)補水(shui)(shui)(shui)、自動(dong)排(pai)水(shui)(shui)(shui)
加液系統
Ø 采用高精度全自動進樣器
清洗系統
Ø 360度清洗,實避免實驗交(jiao)叉(cha)污(wu)染(ran)
排風系統
Ø 儀器自帶排風(feng)系統
Ø 節(jie)約通(tong)風櫥空間
全自動游離二氧化硅處理平臺
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